半導體

作為半導體工業生產設備居于領先地位的開發商與制造商之一,我們提供各種各樣的技術與應用的名目繁多的工藝,諸如邏輯與存儲器件(例如閃存、DRAM)、功率半導體器件(例如硅、碳化硅)、發光二極管、SMT、MEMS或傳感器技術。 

  • 退火(例如離子注入后退火、擴散),
  • 成型(例如低壓氣象沉淀 、等離子體氧化、RTO )
  • 層結構修正(例如氧化物氮化與硅化物生成)


我們高素質的工藝工程師團隊設計創新的解決方案以滿足該行業對精密度日益提高的需求為目標, 為此行業提供越來越小型化的電子元件,而電子元件的功能比上一代更多,速度更快。應用設備如下:

  • 臥式與立式管式系統(大氣壓或真空工藝)
  • 單晶圓體系(RTP 、低溫微波氧化)
  • 立式高溫爐(退火溫度高達2000°C,氧化溫度高達1350°C)

這些體系為制造商提供了最大限度的靈活性,滿足他們的特定要求。我們在對解決方案進行持續不斷的進一步新開發時,對工藝質量、安全性與生產效率等問題一絲不茍。我們向客戶保證自始至終地堅持商先創公司頂尖的質量標準。為了實現這些愿景與承諾,我們已經在設在布勞博伊倫的總部配置了研發與演示設備。我們在所有這些設施中模擬實際生產條件下的工藝流程,以便發展與檢驗這些工藝流程。我們不僅與負有盛名的業界與研究合作伙伴保持長期合作關系,還與客戶密切合作開展研究項目, 并為這些客戶提供工程、服務與咨詢支持。

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